ПЕКИН — Власти Китая пересмотрели правила защиты топологии интегральных схем, усилив требования к регистрации разработок и ответственность за нарушение прав интеллектуальной собственности. Новые нормы направлены на укрепление защиты отечественных технологий в полупроводниковой отрасли.
Пересмотренные правила были подписаны премьером Госсовета КНР Li Qiang 23 июля и вступят в силу 15 октября. Документ опубликован Министерством юстиции КНР и Государственным управлением интеллектуальной собственности через агентство «Синьхуа».
Речь идет о защите топологии интегральных схем — проектных решений, определяющих расположение элементов внутри микросхем. Такие разработки являются одним из ключевых результатов инженерной деятельности и имеют высокую ценность для производителей и разработчиков полупроводников.
Новые правила не вводят экспортных ограничений, однако отражают растущее внимание Пекина к защите технологий, созданных китайскими компаниями. После введения США ограничений на поставки современного оборудования для производства микросхем и программного обеспечения для их проектирования Китай активизировал развитие собственных технологических решений.
По данным Reuters, ранее сообщалось, что китайские власти также рассматривают дополнительные меры, направленные на предотвращение передачи стратегически важных технологий иностранным компаниям. Среди обсуждаемых инициатив — возможные ограничения на производство за рубежом передовых микросхем, разработанных на основе китайских технологий.
Более строгие требования к регистрации
Обновленные правила предусматривают более жесткие условия регистрации разработок.
Теперь заявители обязаны:
подтвердить, что разработка является результатом самостоятельной творческой деятельности;
представить декларацию об оригинальности проекта;
четко выделить оригинальные элементы в подаваемых материалах.
Регулирующие органы получат право отклонять заявки, не соответствующие установленным требованиям, а также пересматривать ранее зарегистрированные права, если выяснится, что регистрация была получена необоснованно.
Усиление ответственности за нарушения
Новые нормы также расширяют механизмы защиты правообладателей.
Размер компенсации за незаконное использование топологии микросхем сможет рассчитываться исходя из:
убытков, понесенных владельцем прав;
прибыли, полученной нарушителем.
В случаях серьезных нарушений китайские суды смогут назначать штрафные (карательные) компенсации, что существенно повышает ответственность за незаконное использование разработок.
Кроме того, документ уточняет порядок лицензирования, передачи прав и использования интеллектуальной собственности в качестве залога. Организации, под руководством которых создаются такие разработки, будут обязаны выплачивать их авторам разумное вознаграждение.
По мнению китайских властей, обновление законодательства должно стимулировать инновации, укрепить защиту отечественных разработчиков и повысить конкурентоспособность национальной полупроводниковой отрасли.
Источник: Reuters.
